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Ferramentas High-NA EUV da ASML ganham força com compromisso de grandes fabricantes.
Nas últimas 24 horas, a ASML garantiu compromissos significativos de fabricantes líderes de semicondutores para adotar suas ferramentas de litografia High-NA EUV de próxima geração. Esse desenvolvimento destaca a confiança da indústria na tecnologia da ASML para atender à crescente demanda por produção avançada de chips, especialmente no setor de IA.
Pontos-chave
- As ferramentas High-NA EUV da ASML estão prestes a revolucionar a produção de chips, com grandes fabricantes como TSMC, Samsung e SK Hynix planejando integrá-las em seus processos a partir de 2028.
- A Intel já começou a usar os sistemas High-NA EUV da ASML para a produção de chips Panther Lake, marcando um marco significativo na adoção dessa tecnologia avançada.
- A ASML está explorando maneiras de aumentar sua capacidade de produção de ferramentas EUV para atender à demanda antecipada, visando produzir mais de 110 unidades até 2028.
- A empresa está colaborando com grandes fabricantes de chips para adaptar suas últimas ferramentas para a fabricação de chips maiores, atendendo às necessidades em evolução da indústria de semicondutores.
Fontes
- Analysis-ASML extends chipmaking dominance as customers embrace High NAReuters · September 14, 2026
- ASML posts Q2 net sales of €9.3bn, reveals Intel Panther Lake chip dealData Center Dynamics · July 15, 2026
- ASML examining ways it can make more than 110 EUV tools in 2028, JPMorgan saysMarketScreener Australia · September 15, 2026
- ASML to work with major chipmakers to use latest tools for larger chipsReuters · September 7, 2026
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