Neutro
ASML reafirma compromisso com tecnologia EUV de plasma produzido a laser, descarta FELs.
Nas últimas 24 horas, a ASML manteve seu foco em sistemas de plasma produzido a laser (LPP) para litografia ultravioleta extrema (EUV), apesar do crescente interesse na tecnologia de laser de elétrons livres (FEL). A empresa continua a investir na melhoria dos sistemas LPP, visando aumentar a potência da fonte EUV para 1.000W. A decisão da ASML ressalta sua confiança na tecnologia EUV atual e seu ceticismo em relação à viabilidade das FELs na fabricação de semicondutores.
Pontos-chave
- ASML reafirma compromisso com a tecnologia LPP EUV, descarta FELs.
- A empresa planeja aumentar a potência da fonte EUV para 1.000W.
- ASML expressa ceticismo sobre a viabilidade das FELs na fabricação de chips.
Fontes
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