ASML reafirma compromisso com sistemas de plasma produzidos a laser, descarta tecnologia FEL

Nas últimas 24 horas, a ASML manteve seu foco em sistemas de plasma produzidos a laser (LPP) para gerar luz ultravioleta extrema (EUV), essencial para a fabricação avançada de chips. Apesar do crescente interesse na tecnologia de laser de elétrons livres (FEL), incluindo apoio de Elon Musk, a ASML continua cética devido à complexidade e aos altos custos associados à infraestrutura FEL. A empresa continua a aprimorar seus sistemas LPP, visando aumentar a potência da fonte para 1.000W e dobrar a produção de gotículas de estanho para 100.000 por segundo.

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