Neutralny
ASML potwierdza zaangażowanie w technologię LPP EUV, odrzuca lasery swobodnoelektronowe.
W ciągu ostatnich 24 godzin ASML utrzymał swoje skupienie na systemach plazmy produkowanej laserowo (LPP) dla litografii ekstremalnej ultrafioletowej (EUV), pomimo rosnącego zainteresowania technologią laserów swobodnoelektronowych (FEL). Firma nadal inwestuje w ulepszanie systemów LPP, dążąc do zwiększenia mocy źródła EUV do 1 000 W. Decyzja ASML podkreśla jej zaufanie do obecnej technologii EUV oraz sceptycyzm wobec wykonalności FEL w produkcji półprzewodników.
Kluczowe punkty
- ASML potwierdza zaangażowanie w technologię LPP EUV, odrzuca FEL.
- Firma planuje zwiększyć moc źródła EUV do 1 000 W.
- ASML wyraża sceptycyzm co do wykonalności FEL w produkcji chipów.
Źródła
Wygenerowane przez AI na podstawie publicznych źródeł wiadomości. To nie jest porada finansowa.
