Neutralny
ASML potwierdza zaangażowanie w systemy plazmy laserowej, odrzuca technologię FEL
W ciągu ostatnich 24 godzin ASML utrzymało swoje skupienie na systemach plazmy laserowej (LPP) do generowania ekstremalnego światła ultrafioletowego (EUV), niezbędnego do zaawansowanej produkcji chipów. Pomimo rosnącego zainteresowania technologią lasera swobodnego elektronu (FEL), w tym wsparcia od Elona Muska, ASML pozostaje sceptyczne z powodu złożoności i wysokich kosztów związanych z infrastrukturą FEL. Firma kontynuuje rozwój swoich systemów LPP, dążąc do zwiększenia mocy źródła do 1 000 W i podwojenia wydajności kropli cyny do 100 000 na sekundę.
Kluczowe punkty
- ASML potwierdza zaangażowanie w systemy LPP, odrzuca technologię FEL
- ASML planuje zwiększyć moc źródła LPP do 1 000 W i podwoić wydajność kropli cyny
Źródła
Wygenerowane przez AI na podstawie publicznych źródeł wiadomości. To nie jest porada finansowa.
