ASML i Samsung Electronics rozszerzają strategiczną współpracę w zakresie półprzewodników
ASML i Samsung Electronics ogłosiły rozszerzenie strategicznej współpracy w celu rozwoju produkcji półprzewodników nowej generacji. Partnerstwo ma na celu przyspieszenie rozwoju i wdrażania nowoczesnych technologii produkcji chipów, szczególnie w zakresie litografii ekstremalnej ultrafioletowej (EUV). Współpraca ma na celu zwiększenie możliwości produkcyjnych zaawansowanych węzłów półprzewodnikowych, wspierając rosnące zapotrzebowanie na wysokowydajne chipy w różnych zastosowaniach.
Kluczowe punkty
- ASML i Samsung Electronics rozszerzyły swoją strategiczną współpracę w celu rozwoju produkcji półprzewodników nowej generacji.
- ASML rozpoczyna budowę nowego kampusu w Eindhoven, wzmacniając swoją obecność w regionie Brainport.
- ASML i TSMC ogłaszają inicjatywę mającą na celu wprowadzenie dużych fotomasków do litografii EUV o wysokim NA.
- Intel Foundry i ASML współpracują, aby przyspieszyć gotowość branży do litografii EUV o wysokim NA.
Źródła
- Samsung Electronics and ASML Expand Strategic Collaboration for Next-Generation Semiconductor ManufacturingBusiness Wire · September 8, 2026
- ASML begins construction of new Eindhoven campus, strengthening its presence in the Brainport regionReuters · September 8, 2026
- ASML and TSMC Announce Initiative to Pioneer Industry Transition to Large-Format Photomasks for High NA EUVGlobeNewswire · September 8, 2026
- Intel Foundry and ASML Collaborate to Accelerate Industry Readiness for High NA EUVBusiness Wire · September 8, 2026
Wygenerowane przez AI na podstawie publicznych źródeł wiadomości. To nie jest porada finansowa.

