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ASML riafferma impegno per sistemi a plasma prodotto da laser, respinge tecnologia FEL

Nelle ultime 24 ore, ASML ha mantenuto il suo focus sui sistemi a plasma prodotto da laser (LPP) per generare luce ultravioletta estrema (EUV), essenziale per la produzione avanzata di chip. Nonostante l'interesse crescente per la tecnologia del laser a elettroni liberi (FEL), incluso il supporto di Elon Musk, ASML rimane scettica a causa della complessità e dei costi elevati associati all'infrastruttura FEL. L'azienda continua a migliorare i suoi sistemi LPP, puntando ad aumentare la potenza della sorgente a 1.000W e raddoppiare la produzione di gocce di stagno a 100.000 al secondo.

Punti chiave

  • ASML riafferma impegno per sistemi LPP, respinge tecnologia FEL
  • ASML prevede di aumentare la potenza della sorgente LPP a 1.000W e raddoppiare la produzione di gocce di stagno

Fonti

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