ASML riafferma impegno per sistemi a plasma prodotto da laser, respinge tecnologia FEL
Nelle ultime 24 ore, ASML ha mantenuto il suo focus sui sistemi a plasma prodotto da laser (LPP) per generare luce ultravioletta estrema (EUV), essenziale per la produzione avanzata di chip. Nonostante l'interesse crescente per la tecnologia del laser a elettroni liberi (FEL), incluso il supporto di Elon Musk, ASML rimane scettica a causa della complessità e dei costi elevati associati all'infrastruttura FEL. L'azienda continua a migliorare i suoi sistemi LPP, puntando ad aumentare la potenza della sorgente a 1.000W e raddoppiare la produzione di gocce di stagno a 100.000 al secondo.
Punti chiave
- ASML riafferma impegno per sistemi LPP, respinge tecnologia FEL
- ASML prevede di aumentare la potenza della sorgente LPP a 1.000W e raddoppiare la produzione di gocce di stagno
Fonti
Generato dall'IA da fonti di notizie pubbliche. Non è una consulenza finanziaria.

