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ASML reafirma compromiso con sistemas de plasma producido por láser, descarta tecnología FEL
En las últimas 24 horas, ASML ha mantenido su enfoque en los sistemas de plasma producido por láser (LPP) para generar luz ultravioleta extrema (EUV), esencial para la fabricación avanzada de chips. A pesar del creciente interés en la tecnología de láser de electrones libres (FEL), incluido el apoyo de Elon Musk, ASML se mantiene escéptico debido a la complejidad y los altos costos asociados con la infraestructura FEL. La empresa continúa mejorando sus sistemas LPP, con el objetivo de aumentar la potencia de la fuente a 1,000W y duplicar la producción de gotas de estaño a 100,000 por segundo.
Puntos clave
- ASML reafirma compromiso con sistemas LPP, descarta tecnología FEL
- ASML planea aumentar la potencia de la fuente LPP a 1,000W y duplicar la producción de gotas de estaño
Fuentes
Generado por IA a partir de fuentes de noticias públicas. No es asesoramiento financiero.
