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TSMC kooperiert mit ASML zur Entwicklung von 12-Zoll-EUV-Photomasken.
TSMC hat eine Zusammenarbeit mit ASML angekündigt, um den Übergang der Halbleiterindustrie zu größeren 12-Zoll-extrem ultravioletten (EUV) Lithografie-Photomasken für die fortschrittliche Chipproduktion zu führen. Ziel der Partnerschaft ist es, bis 2031 eine Pilotproduktionslinie für 12-Zoll-EUV-Photomasken einzurichten und das Lithografie-Ökosystem bis 2033 auf die Serienproduktion vorzubereiten. ([focustaiwan.tw](https://focustaiwan.tw/business/202609080020?utm_source=openai))
Kernpunkte
- Partnerschaft von TSMC und ASML zur Entwicklung von 12-Zoll-EUV-Photomasken für fortschrittliche Chipproduktion.
- Die Zusammenarbeit zielt darauf ab, bis 2031 eine Pilotproduktionslinie für 12-Zoll-EUV-Photomasken einzurichten und das Lithografie-Ökosystem bis 2033 auf die Serienproduktion vorzubereiten.
Quellen
KI-generiert aus öffentlichen Nachrichtenquellen. Keine Anlageberatung.
