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Tägliches Markt-Briefing

Bullisch

ASMLs Einführung der High-NA EUV-Technologie beschleunigt sich mit großen Chip-Herstellern

In den letzten 24 Stunden gab es bedeutende Entwicklungen in der Halbleiterindustrie. Große Chip-Hersteller wie Samsung, TSMC, Intel und SK hynix haben sich verpflichtet, ASMLs fortschrittliche High-NA EUV-Lithografietechnologie bis 2028-2030 in ihre Produktionslinien zu integrieren. Diese Einführung wird durch die wachsende Nachfrage nach KI- und Server-Chips vorangetrieben, die fortschrittlichere Fertigungsprozesse erfordern.

Kernpunkte

  • Samsung plant, bis 2028 mit der Serienproduktion von High-NA EUV zu beginnen, TSMC folgt bis 2030.
  • Intel hat über eine Million 300-mm-Wafer mit High-NA EUV-Scannern verarbeitet und übertrifft damit die gesamte Branche.
  • Chinesische Speicherhersteller CXMT und YMTC haben einen erheblichen Vorrat an DUV-Lithografiemaschinen von ASML gesichert, der ihre Expansion in den nächsten drei Jahren unterstützen kann.
  • Die Hauptversammlung von ASML genehmigte eine Schlussdividende von 2,70 € pro Aktie, was die Gesamtdividende für 2025 auf 7,50 € pro Aktie erhöht.

Quellen

KI-generiert aus öffentlichen Nachrichtenquellen. Keine Anlageberatung.

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