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ASML bekräftigt Engagement für laserproduzierte Plasmasysteme, lehnt FEL-Technologie ab
In den letzten 24 Stunden hat ASML seinen Fokus auf laserproduzierte Plasmasysteme (LPP) zur Erzeugung von extrem ultraviolettem (EUV) Licht beibehalten, das für die fortschrittliche Chipfertigung unerlässlich ist. Trotz des wachsenden Interesses an der Freie-Elektronen-Laser (FEL)-Technologie, einschließlich Unterstützung von Elon Musk, bleibt ASML skeptisch aufgrund der Komplexität und hohen Kosten, die mit der FEL-Infrastruktur verbunden sind. Das Unternehmen verbessert weiterhin seine LPP-Systeme und strebt an, die Quellenleistung auf 1.000 W zu erhöhen und die Zinntröpfchenproduktion auf 100.000 pro Sekunde zu verdoppeln.
Kernpunkte
- ASML bekräftigt Engagement für LPP-Systeme, lehnt FEL-Technologie ab
- ASML plant, die LPP-Quellenleistung auf 1.000 W zu erhöhen und die Zinntröpfchenproduktion zu verdoppeln
Quellen
KI-generiert aus öffentlichen Nachrichtenquellen. Keine Anlageberatung.
