Neutral
ASML bekräftigt Engagement für laserproduzierte Plasma-EUV-Technologie, lehnt FELs ab.
In den letzten 24 Stunden hat ASML seinen Fokus auf Systeme mit laserproduziertem Plasma (LPP) für die extreme Ultraviolett (EUV) Lithografie beibehalten, trotz wachsendem Interesse an der Technologie der Freie-Elektronen-Laser (FEL). Das Unternehmen investiert weiterhin in die Verbesserung der LPP-Systeme, mit dem Ziel, die EUV-Quellleistung auf 1.000W zu steigern. ASMLs Entscheidung unterstreicht sein Vertrauen in die aktuelle EUV-Technologie und seine Skepsis gegenüber der Machbarkeit von FELs in der Halbleiterfertigung.
Kernpunkte
- ASML bekräftigt Engagement für LPP-EUV-Technologie, lehnt FELs ab.
- Das Unternehmen plant, die EUV-Quellleistung auf 1.000W zu steigern.
- ASML äußert Skepsis über die Machbarkeit von FELs in der Chipproduktion.
Quellen
KI-generiert aus öffentlichen Nachrichtenquellen. Keine Anlageberatung.
